摘要 NMC 508RIE介质刻蚀机为电容耦合等离子体干法刻蚀机，适用6/8英寸介质层刻蚀工艺，具有高刻蚀速率和均匀性，工艺类型覆盖前道和后道所有介质刻蚀。该机台为多腔室集群设备，可全自动并行工艺、易维护、性能稳定、产能高、客户拥有成本低。

摘要NMC 508M金属刻蚀机为高密度等离子体刻蚀机，适用6/8英寸金属干法刻蚀工艺。具备良好的铝线形貌控制能力、高刻蚀速率、高刻蚀均匀性、低颗粒/缺陷等性能优势。该机台为多腔室集群设备，含金属腔和去胶腔组合，可全自动并行工艺，PM维护周期长，性能稳定，产能高，客户拥有成...

摘要NMC 508CG多晶硅刻蚀机为高密度等离子体刻蚀机，适用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蚀工艺。具备良好的形貌控制能力、高刻蚀速率、高刻蚀均匀性、低颗粒/缺陷等性能优势。该机台为多腔室集群设备，可全自动并行工艺，易维护、性能稳定、产能高、客户拥有成本低 。已广泛量产应用...

摘要JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比。利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）...

摘要 JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具高水平的产出量和定位精度，能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。

摘要 JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?

摘要 JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。

摘要 高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。

摘要PLUTO-WIN是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复...

摘要PLUTO-WIN是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比CCP等离子体系统。作为一个多功能系统，它通过优化的系统设计与灵活的配置方案，获得高性能CCP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小，专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全，且工艺稳定重复...

摘要 二手刻蚀机OXFORDPLASMALAB800PLUS，反应离子刻蚀机（RIE），可对尺寸为5英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 OXFORDIONFAB300PLUS二手刻蚀设备，多模式离子束刻蚀系统，可对4-8英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 OXFORDNGP1000TR二手刻蚀机现货，2011年设备，随时可以发货

摘要 OXFORDPLASMALAB二手刻蚀机现货供应，反应离子刻蚀设备，随时发货

摘要 OXFORDPLASMALAB133二手刻蚀机，2006年RIE干法蚀刻设备

摘要 二手刻蚀机OXFORDPLASMALAB80PLUS，RIE蚀刻系统，2003年设备，可对8英寸晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 OXFORDPLASMALAB90PLUS二手刻蚀机现货，RIE刻蚀系统，打包封装完成，随时可以发货

摘要 MATTSONASPENII二手刻蚀机，1995年设备，双室ICP刻蚀系统，已打包封装完成，可随时发货

摘要 MATTSON二手刻蚀机ASPENIII，2006年设备，lightetcher，可对12英寸晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 MATTSONASPENIIINEXION二手刻蚀机现货,已经拆解并打包封装完成，随时可以发货，支持技术修改、调试和售后维修

摘要 二手刻蚀机MATTSONPARADIGM，PRAsher设备，双工作腔室，可对尺寸为12英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理，已拆卸和打包完成，可随时发货

摘要 MATTSONPARADIGMEE二手刻蚀机，打包封装完成，随时可以发货

摘要 二手刻蚀机MATTSONPARADIGMESI，2011年设备，可对尺寸为12英寸的晶圆进行刻蚀工艺加工处理

摘要 二手刻蚀机MATTSONSUPREMAIM，2012年设备，可对12英寸大小的晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 二手刻蚀机现货供应MATRIX102/105,打包封装完成，随时发货

摘要 二手刻蚀机现货MATRIX105，Plasmaasher设备，可对尺寸大小为6英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 二手刻蚀机MATRIX205，采用干法刻蚀，可对6英寸大小的晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 MATRIX303二手刻蚀机,等离子氧化刻蚀系统，可对尺寸为2~6英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 MATRIXCHEETAH200刻蚀机二手现货，Plasmaasher设备，正常运行，打包封装完成，可随时发货

摘要 MATRIXJAGUAR300MM刻蚀机二手现货供应，2000年设备，可对尺寸大小为12英寸的晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 MATRIXPLATEMATEPLUS二手刻蚀机，打包封装完成，随时可以发货

摘要 MATRIXSYSTEM10二手刻蚀机，反应离子刻蚀RIE、Plasmaasher双模式，可对6-8英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 MATRIX二手刻蚀机SYSTEMONE，Plasmaasher设备，可对6英寸大小的晶圆进行加工处理

摘要 二手刻蚀机MATRIXSYSTEMONE103，可对50mm~150mm尺寸的晶圆进行蚀刻工艺加工

摘要 二手刻蚀机现货供应MATRIXSYSTEMONE106，1995年设备，可对4-6英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工

摘要 二手刻蚀机现货TOKYOOKA/TOKTCE-3822，2011年设备，可对尺寸为5英寸的晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 刻蚀机二手现货供应AXCELIS/FUSION200ACU，2004年asher设备，可对8英寸的晶圆进行工艺处理

摘要 AXCELIS/FUSION200MCU二手刻蚀机，1993年设备，可对8英寸晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 二手刻蚀机现货供应AXCELIS/FUSION300MM，打包封装完成，可随时发货

摘要 二手刻蚀机现货AXCELIS/FUSIONES3，2001年Plasmaasher设备，可对12英寸大小的晶圆进行蚀刻工艺处理

摘要 AXCELIS/FUSIONG03刻蚀机二手现货，Ozoneasher设备，打包封装完成，可随时发货

摘要 AXCELIS/FUSIONRADIANTSTRIP320ES刻蚀机，Stripper/Asher系统，现货供应，打包完成，可随时发货

摘要 二手现货刻蚀机PVATEPLA/TECHNICS200SERIES，2005年设备，可对2~6英寸的晶圆进行蚀刻工艺加工处理

摘要 PVATEPLA/TECHNICS300AUTOLOADPC刻蚀机

摘要 二手现货刻蚀机PVATEPLA/TECHNICS300SEMI-AUTO，等离子刻蚀系统，已打包封装完成，随时可发货